eXtra Coherent EUV Light Source System

eXtra 는 극초단펄스레이저의 High-order Harmornic Generation (HHG) 기술에 기반한 10~30nm 파장대의 코헤런트 극자외선광 발생시스템입니다. 극초단펄스 레이저를 Ne 같은 가스셀에 집속할 때 발생하는 플라즈마에서 여러가지 다양한 스펙트럼의 빛들이 관측되는데, 그중에서도 레이저파장의 수10~수100 정수배나 짧은 EUV (XUV) 또는 Soft X-ray 광이 섞여 있습니다. 입사레이저의 강력한 빛에 의해 가스원자로부터 전자들의 일부가 분리된 후 플라즈마가 식으면서 다시 원자와 재결합하는 과정에서 극자외선광이 발생합니다. 이때 극자외선광의 파장은 입사레이저광과 플라즈마와의 비선형 상호작용인 고차조화파발생 (High-order Harmonic Generation) 프로세스에 의해 결정되며, 극자외선파장= 레이저파장/N (또는 극자외선주파수= 레이저주파수 x N) 의 관계를 가집니다. HHG 과정으로 발생된 EUV광 파장은 반드시 N 이 하나의 정수값일 필요는 없고 동시에 여러 차수의 EUV 광이 발생할수 있습니다.

다음 그림은 파장 800nm인 극초단 티타늄 사파이어광을 Ne 가스에 집속하여 얻은 HHG 기반 EUV 스펙트럼입니다. Zr 박막 필터로 걸른 경우, N=59차 인 13.5nm 에서 제일 강한 스펙트럼을 확인할 수 있습니다. Al 필터로 걸르면 17.5nm 이상의 스펙트럼만 관측됩니다. 

한편 이렇게 해서 발생된 EUV광은 레이저광과 같은 코헤런트 특성을 가지게 되므로, 산란된 광이더라도 위상을 복원할수 있어서 Lensless imaging 같은 특수한 이미징 방법에 유용하게 적용가능합니다.

eXtra 시스템은 크게

▶극초단 Ti:sapphire 레이저 시스템
▶진공챔버 및 진공펌프
▶가스셀 및 가스콘트롤러
▶레이저 집속광학계
▶EUV 분리광학계

로 구성되며, 일반 광학테이블에 설치 운전가능합니다.

자세한 문의사항은 당사로 연락주시기 바랍니다.